多晶硅微波干燥设备
多晶硅微波干燥设备,广泛适用半导体多晶硅干燥
多晶硅,是单质硅的一种形态。熔融的单质硅在过冷条件下凝固时,硅原子以金刚石晶格形态排列成许多晶核,如这些晶核长成晶面取向不同的晶粒,则这些晶粒结合起来,就结晶成多晶硅。利用价值:从目前国际太阳电池的发展过程可以看出其发展趋势为单晶硅、多晶硅、带状硅、薄膜材料(包括微晶硅基薄膜、化合物基薄膜及染料薄膜)
多晶硅加工生产中,最关键的是用纯水清洗,干燥后在加工。微波设备能满足要求,加热速度快脱水能力强提高效率,是电加热干燥的几十倍,又无二次污染,保证多晶硅的纯度,提高加工质量。为了满足多晶硅高温干燥,输送带选用了耐1000度高温的材料,内部箱体,抽湿系统做了隔离处理,保证了干燥后无二次污染。
微波干燥设备整体外形结构紧凑、美观、流畅,占地面积小。针对该物料的物理特性,设计合理的箱体尺寸,使加热器内微波功率密度均匀,微波自上而下宽带馈入,使物料加热更加均匀。采用全新的微波烘干技术与设备。能够实现物料的无污染和均匀干燥,同时可大幅降低干燥温度,此外干燥速度通常提高数倍以上,生产效率大幅提高,干燥能耗通常降低50%以上,最终实现安全洁净高效生产。
微波干燥特点和机理不同于一般的干燥技术,概括起来有以下特点:
1) 微波干燥过程中的干燥层首先在物料内部形成, 然后由里层向外扩展。原因是物料在微波条件下内外同时受热,内部温度高于外部,水蒸气由内向表层排出,物料内部先形成干燥层;常规加热容易在物料外部先形成一层干燥硬壳, 这不仅会影响物料的品质和外观,还会降低干燥速度。而微波干燥从根本上避免了以上情况的发生。
2) 微波干燥节能。用远红外线和蒸汽能源进行干燥,其能源利用率不足50%,而用微波作为能源的利用率可达75%以上,比远红外和蒸气干燥能耗降低25%以上。
主要性能及技术参数
根据客户需要量身订制;
1、输入电源:三相五线380V±10% 50Hz±1%
2、微波输出功率:48kW(可调)
3、微波频率:2450MHz±50Hz
4、额定输入视在功率:≤69kVA
5、进出料口高度:50mm
6、传输带宽度:500mm
7、传输速度:0.1~5m/min
8、外形尺寸(长×宽×高):约12700×665×1668mm
9、工作环境:0~40℃、相对湿度≤80%
10、微波箱体数量:8个箱体